18video性欧美19sex,欧美高清videosddfsexhd,性少妇videosexfreexxx片中国,激情五月激情综合五月看花,亚洲人成网77777色在线播放

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

ASML去年交付26臺極紫外光刻機(jī),其中兩款可用于生產(chǎn)7nm和5nm芯片

牽手一起夢 ? 來源:TechWeb ? 作者:辣椒客 ? 2020-03-07 14:39 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

據(jù)國外媒體報(bào)道,在芯片的制造過程中,光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備,在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后,極紫外光刻機(jī)也就至關(guān)重要。

荷蘭的阿斯麥(ASML)公司,是目前全球唯一能制造極紫外光刻機(jī)的廠商,他們的報(bào)告顯示,在2019年,他們共向用戶交付了26臺極紫外光刻機(jī)。

阿斯麥?zhǔn)窃?019年的年報(bào)中,披露他們向用戶交付了26臺極紫外光刻機(jī)的,較2018年的18臺增加了8臺。從阿斯麥的財(cái)報(bào)來看,他們在去年四季度交付了8臺極紫外光刻機(jī),這也就意味著他們在去年的前三個(gè)季度,就已完成了2018年的交付量。

阿斯麥目前的極紫外光刻機(jī),包括TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,這兩款極紫外光刻機(jī),可用于生產(chǎn)7nm和5nm的芯片,后者是最新推出的,去年共交付了9臺。

年報(bào)還披露,極紫外光刻機(jī)去年共為阿斯麥帶來了27.997億歐元(折合約31.43億美元)的營收。

責(zé)任編輯:gt

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    462

    文章

    53239

    瀏覽量

    454968
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1191

    瀏覽量

    48642
  • 7nm
    7nm
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    267

    瀏覽量

    36184
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機(jī)路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而紫外(EUV)光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?8993次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布EUV<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>路線圖,挑戰(zhàn)<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飆升!ASML光刻機(jī)直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝(FOPLP)技術(shù)為何會獲得積電、三星等代工大廠的青睞?比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備,尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同?能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中
    的頭像 發(fā)表于 07-24 09:29 ?6557次閱讀
    AI需求飆升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>直擊2<b class='flag-5'>nm</b><b class='flag-5'>芯片</b>制造,尼康新品獲重大突破

    白光干涉儀在EUV光刻后的3D輪廓測量

    EUV(紫外光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長,成為 7nm 及以下節(jié)點(diǎn)集成電路制造的核心工藝,其
    的頭像 發(fā)表于 09-20 09:16 ?401次閱讀

    【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)

    %。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。 2、晶背供電技術(shù) 3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù) 光刻技術(shù)是制造3nm5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片
    發(fā)表于 09-15 14:50

    ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動(dòng)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。
    發(fā)表于 06-29 06:39 ?1699次閱讀

    飛利浦將旗下MEMS代工廠Xiver出售,該廠為ASML光刻機(jī)提供組件

    Cees Meeuwis 旗下的 Orange Mills Ventures 領(lǐng)銜的私人投資者財(cái)團(tuán)收購。 除了為 ASML紫外光刻設(shè)備提供組件外,Xiver 還為汽車領(lǐng)域提供紅外探測器,并擁有
    的頭像 發(fā)表于 01-16 18:29 ?2201次閱讀

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?5094次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    納米壓印光刻技術(shù)旨在與紫外光刻(EUV)競爭

    芯片制造、價(jià)值1.5億美元的紫外(EUV,https://spectrum.ieee.org/tag/euv)光刻掃描
    的頭像 發(fā)表于 01-09 11:31 ?971次閱讀

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    納米級別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟,負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源,但隨著技術(shù)的進(jìn)步,目前多采用深紫外
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?3627次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    消息稱積電3nm、5nm和CoWoS工藝漲價(jià),即日起效!

    )計(jì)劃從2025年1月起對3nm、5nm先進(jìn)制程和CoWoS封裝工藝進(jìn)行價(jià)格調(diào)整。 先進(jìn)制程2025年喊漲,最高漲幅20% 其中,對3nm、5nm
    的頭像 發(fā)表于 01-03 10:35 ?889次閱讀

    日本首臺EUV光刻機(jī)就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報(bào)道,Rapidus 成為日本首家獲得紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?1284次閱讀
    日本首臺EUV<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位

    193nm紫外波前傳感器(512x512高相位分辨率)助力半導(dǎo)體/光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展!

    ,消色差,具有2nmRMS的相位檢測靈敏度,能夠精確測量紫外光波前的細(xì)微變化。SID4-UV-HR紫外波前分析儀非常適合紫外光學(xué)元件表征(DUV光刻、半導(dǎo)體等領(lǐng)域)和表
    的頭像 發(fā)表于 11-27 11:46 ?1324次閱讀
    193<b class='flag-5'>nm</b><b class='flag-5'>紫外</b>波前傳感器(512x512高相位分辨率)助力半導(dǎo)體/<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>行業(yè)發(fā)展!

    用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?3875次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    積電產(chǎn)能爆棚:3nm5nm工藝供不應(yīng)求

    積電近期成為了高性能芯片代工領(lǐng)域的明星企業(yè),其產(chǎn)能被各大科技巨頭瘋搶。據(jù)最新消息,積電的3nm5nm工藝產(chǎn)能利用率均達(dá)到了極高水平,
    的頭像 發(fā)表于 11-14 14:20 ?1208次閱讀

    今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)

    1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī),加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首High NA EUV(
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?1394次閱讀