在半導體制程中，一系列復雜的先進材料和環(huán)境控制的相互作用，致使每種材料和環(huán)境控制均須符合純度標準才能確保晶圓良率和器件可靠性。在不破壞材料成分的情況下，分析相互作用的影響因素，從而去除特定微污染物的過程，即稱為定向去除。

Entegris 采用整體方法來保障每個制程和整個半導體供應鏈中的準確性，從而為您節(jié)省時間和資金。以下說明工作原理。

什么是定向去除？

幾乎所有進入晶圓廠的物質，包括液體、氣體和環(huán)境空氣，都有可能攜帶污染物，會對晶圓和器件的性能造成不利影響。每個制程區(qū)域對每種污染物的敏感度各不相同。在不破壞成分的情況下，定向去除微污染物需要格外謹慎。定向去除模型可以識別各種微污染物的威脅，從而保持材料原有的平衡狀態(tài)。示例如下：

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構建定向去除模型

要構建用于執(zhí)行和測量純度的模型，全程需要半導體供應鏈中的所有成員通力合作。

01

確定每個制程中的定向微污染物和敏感度水平以了解晶圓廠概況

02

識別并去除材料純度破壞的風險以保持材料性能

03

分析在指定制程中相互作用的所有材料以及對整個晶圓廠的影響

04

根據(jù)以往經驗推薦每個制程區(qū)域適用的過濾器和/或純化器

05

測試并驗證解決方案的有效性

助力半導體制造高效除污

Entegris 提供廣泛的材料純度專業(yè)知識和系統(tǒng)化方法，可在整個晶圓廠生態(tài)系統(tǒng)中構建高效的定向去除工藝。