EBSD技術(shù)的進(jìn)步

電子背散射衍射技術(shù)（EBSD）在材料科學(xué)領(lǐng)域扮演著越來(lái)越重要的角色。它允許科學(xué)家在掃描電子顯微鏡（SEM）下進(jìn)行顯微形貌、成分和晶體取向的綜合分析，極大地提高了材料研究的效率和準(zhǔn)確性。

鈦合金圖譜

備

盡管EBSD技術(shù)帶來(lái)了許多便利，但它對(duì)操作者提出了較高的要求，操作者需要具備深厚的晶體學(xué)知識(shí)。此外，EBSD對(duì)樣品的制備也有嚴(yán)格的要求，這對(duì)于初學(xué)者來(lái)說(shuō)是一個(gè)不小的挑戰(zhàn)。不同材料的樣品制備對(duì)EBSD技術(shù)有不同的適應(yīng)性，因此，簡(jiǎn)單的復(fù)制他人的制樣方法并不可行，需要根據(jù)自己樣品的特性進(jìn)行不斷的實(shí)踐和探索。

EBSD制樣通常包括線(xiàn)切割、除油、鑲樣、磨樣和拋光（包括機(jī)械拋光和電解拋光）等步驟。其中，磨樣、機(jī)械拋光和電解拋光是制樣過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

鈦合金試樣在經(jīng)過(guò)線(xiàn)切割后，表面會(huì)形成嚴(yán)重的損傷層。為了確保試樣質(zhì)量，需要使用不同目數(shù)的砂紙進(jìn)行磨削，從120目開(kāi)始，逐步提高到800目。

鈦合金的機(jī)械拋光通常使用氧化鋁作為拋光粉，粗拋時(shí)使用3-1μm粒度的微粉，精拋時(shí)使用0.5-0.2μm的微粉。拋光液中拋光粉和水的比例可以根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整，一般每勺拋光粉加入300ml水。拋光機(jī)的轉(zhuǎn)速可以調(diào)至500-700r/min，以節(jié)省時(shí)間。拋光過(guò)程中，拋光液應(yīng)呈水滴狀滴下，以防止試樣過(guò)熱。經(jīng)過(guò)細(xì)拋后，使用金相顯微鏡檢查試樣表面是否平整且無(wú)明顯深拋痕。若滿(mǎn)足條件，可進(jìn)一步使用水和酒精進(jìn)行拋光，然后用酒精清洗樣品，并迅速烘干。

鈦合金圖譜

TC4、BT31、TA2：電解液組成為高氯酸:甲醇:正丁醇=1:6:3（體積比），陰極材料為不銹鋼，電壓為30V，電流密度為100~150A·dm-2，溫度≤-10℃，時(shí)間為30~60秒。

TC27：電解液組成為高氯酸(6%):甲醇(60%)=4:6（體積比），陰極材料為不銹鋼，電壓為30~50V，電流密度為50~80 A·dm-2，溫度為0~20℃，時(shí)間為40~120秒。

結(jié)