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鎧俠雙軸技術(shù)戰(zhàn)略,研發(fā)超級SSD

花茶晶晶 ? 來源:電子發(fā)燒友 ? 作者:綜合報道 ? 2025-06-12 09:14 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,日前鎧俠Kioxia 在其企業(yè)戰(zhàn)略會議上宣布了其在人工智能時代的中長期增長戰(zhàn)略。鎧俠通過提供存儲技術(shù)和支持數(shù)據(jù)創(chuàng)新的解決方案,繼續(xù)在信息基礎(chǔ)設(shè)施中發(fā)揮關(guān)鍵作用。

預(yù)計到2029年,近一半的NAND需求將與人工智能相關(guān)。Kioxia旨在通過先進的SSD產(chǎn)品和技術(shù),以支持人工智能系統(tǒng)不斷變化的需求。鎧俠正在開發(fā)鎧俠CM9系列、鎧俠LC9系列和其他系列,作為其使用第8代BiCS FLASH的最新SSD產(chǎn)品線。KIOXIA CM9系列是用于AI系統(tǒng)的高性能SSD,旨在最大限度地提高需要高性能和高可靠性的GPU能力。KIOXIA LC9系列是一款大容量SSD,容量達到122TB,適用于推理中使用的大型數(shù)據(jù)庫等用例。Kioxia利用閃存技術(shù)和SSD技術(shù)的融合,包括內(nèi)部SSD控制器和SSD固件,并利用其在企業(yè)應(yīng)用方面的知識和經(jīng)驗,繼續(xù)推進SSD發(fā)展,致力于擴大其市場份額。

NAND芯片的成本競爭力水平取決于單個芯片可以容納多少位。一般來說提高位密度的方法包括以下幾種:“垂直擴展”,即增加層數(shù)?!皺M向縮小”技術(shù),這是鎧俠的關(guān)鍵優(yōu)勢,涉及減少芯片的二維面積。引入新的架構(gòu),如CBA(直接連接到陣列的CMOS)。通過QLC等方法提高邏輯比特密度。

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橫向縮小,鎧俠(Kioxia)與合作伙伴合作開發(fā)了一種名為“On Pitch Select Gate Drain”(OPS)的突破性技術(shù)。該技術(shù)減少了存儲單元的字線(水平)層中的面積開銷。在BiCSFLASH的第6代之前,在傳統(tǒng)布局中,一些存儲孔被犧牲并變?yōu)榉腔顒訝顟B(tài),以提供物理隔離,從而允許物理頁的單獨選擇。在BiCSFLASH的第8代中,鎧俠成為業(yè)內(nèi)首家采用OPS技術(shù)的廠商,該技術(shù)能夠在活動存儲孔之間形成隔離,顯著減少面積開銷。

過去,架構(gòu)從CNA(CMOSNexttoArray)發(fā)展到CUA(CMOS UnderArray),這減少了CMOS的面積開銷,但仍然需要路由開銷將CMOS連接到存儲單元。在BiCSFLASH的第8代中引入的CBA技術(shù)通過分別制造CMOS和單元陣列并將它們粘合在一起進一步減少了這種開銷。此外,由于CBA技術(shù)允許CMOS芯片和存儲單元芯片在其最佳的熱條件下單獨處理,兩者都可以達到其最高的性能水平。

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BiCS FLASH技術(shù)戰(zhàn)略正在沿著兩個軸推進開發(fā):一個軸是增加傳統(tǒng)方式下的層數(shù),提供大容量和高性能的產(chǎn)品線,另一個軸是通過將現(xiàn)有單元技術(shù)與最新的CMOS技術(shù)相結(jié)合,充分利用CBA技術(shù),以實現(xiàn)高性能并降低投資成本。我們稱之為雙軸戰(zhàn)略。

首先,對于大容量、高性能的產(chǎn)品線,我們將結(jié)合進一步的堆疊與橫向收縮開發(fā)具有高位密度和大容量的產(chǎn)品,如BiCSFLASH第10代及更高版本,以滿足企業(yè)和數(shù)據(jù)中心SSD市場的需求。其次,對于以性能為核心的產(chǎn)品線,我們將開發(fā)BiCSFLASH第九代,利用CBA技術(shù),將現(xiàn)有的一代存儲單元與高速CMOS技術(shù)相結(jié)合,從而滿足各種尖端應(yīng)用的要求。由于我們利用了現(xiàn)有的內(nèi)存單元世代,可以抑制與堆疊層相關(guān)的資本投資,同時滿足人工智能驅(qū)動的邊緣應(yīng)用的需求。通過這一雙軸戰(zhàn)略,鎧俠的目標是保持最佳的投資效率,同時開發(fā)滿足下一代應(yīng)用先進需求的有競爭力的產(chǎn)品。

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目前,除了大部分業(yè)務(wù)在TLC和QLCNAND上之外,也在開發(fā)諸如OCTRAM(氧化物半導體通道晶體管DRAM),這是一種使用氧化物半導體通道的新型DRAM,目標市場將是需要低功耗主存儲的未來市場。

此外,鎧俠開發(fā)了一種具有極低延遲、高性能的閃存XL-FLASH。XL-FLASH設(shè)計用于填補易失性存儲器(如DRAM)和當前閃存之間存在的性能缺口。XL-FLASH與所有閃存一樣,能夠在斷開電源時保留數(shù)據(jù)。支持MLC功能的第二代XL-FLASH正在批量生產(chǎn)。

采用鎧俠BiCS FLASH 3D閃存技術(shù)制造的XL-FLASH旨在幫助數(shù)據(jù)中心、云提供商以及企業(yè)滿足日益嚴苛的應(yīng)用需求。XL-FLASH的特點是易于管理和擴展,具有128 Gb芯片(SLC)/256 Gb芯片(MLC)(采用2芯片、4芯片、8芯片封裝)、4kB頁面大?。蓪崿F(xiàn)更高效的操作系統(tǒng)讀寫性能)、快速頁面讀取和寫入時間以及小于5微秒的讀取延遲。

鎧俠計劃在兩種解決方案中部署這項技術(shù)。

首先,超高IOPS SSD針對AI服務(wù)器。AI訓練和推理的主要挑戰(zhàn)是缺乏HBM/DRAM容量和數(shù)據(jù)讀取錯誤導致的重新計算需求。SSD在提供大容量和避免數(shù)據(jù)讀取錯誤方面表現(xiàn)出色,通過利用高速、低延遲的XL-FLASH,我們可以實現(xiàn)能夠承受GPU高速計算的SSD。

超高IOPS SSD,通過將XL-FLASH(大規(guī)模生產(chǎn))與新的SSD控制器相結(jié)合,提供超過1000萬IOPS。Kioxia計劃在2026年下半年送樣。

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其次是CXL-XL(基于Compute Express Link的XL-FLASH內(nèi)存),這是一種利用CXL接口技術(shù)的內(nèi)存解決方案,允許CPU之間共享內(nèi)存空間。

隨著計算規(guī)模的擴大和分布的增多以支持高級工作負載,僅通過DRAM擴展內(nèi)存容量在成本和功耗方面都帶來了挑戰(zhàn)。

此外,鎧俠表示,將資本支出控制在收入的20%以下,并根據(jù)市場趨勢進行適當?shù)耐顿Y。Kioxia的四日市和北上工廠生產(chǎn)具有成本競爭力的產(chǎn)品。鎧俠將把研發(fā)支出保持在收入的8-9%,專注于SSD業(yè)務(wù)和下一代設(shè)備開發(fā)。

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