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半導(dǎo)體制造材料突破!國產(chǎn)新一代高性能UV減粘膠研制成功

Hobby觀察 ? 來源:電子發(fā)燒友 ? 作者:梁浩斌 ? 2025-09-08 03:20 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 近日中國航天科技集團有限公司四院7416廠三沃化學(xué)公司宣布,依托其在有機小分子設(shè)計、高分子合成及界面粘接領(lǐng)域的深厚技術(shù)積淀,積極組建專業(yè)技術(shù)團隊,協(xié)同知名高校及產(chǎn)業(yè)重要客戶,成功研制出新一代高性能UV減粘膠。

該產(chǎn)品創(chuàng)新性地采用獨特的多重固化-減粘機制,從根本上解決了精密制程,尤其是半導(dǎo)體制造中的剝離難題。據(jù)透露,目前,三沃化學(xué)公司這款UV減粘膠已在晶圓、UTG玻璃、PCB/FPC的精密切割保護等多個關(guān)鍵領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)成功應(yīng)用,滿足復(fù)雜制程中高效剝離需求,成為提升良率和效率的利器。該UV減粘膠自推出以來,憑借其卓越的性能和可靠表現(xiàn),迅速獲得市場認可,成功開發(fā)多家行業(yè)標桿客戶,解決了其在精密制造中長期面臨的剝離力控制難、易損傷基材、易殘膠、效率低等問題。

三沃化學(xué)這款UV減粘膠的創(chuàng)新設(shè)計使其反應(yīng)過程智能劃分為兩個精密可控的階段:

第一階段:極致固化,無懈可擊的保護(UV固化階段)
UV膠粘劑家族具有高效多重固化性能,固化后形成交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)極度致密的膠層,強酸強堿浸泡下零滲入,剝離力波動<3%,完美兼容從傳統(tǒng)高壓汞燈到LED等多種光源。在晶圓切割、UTG玻璃、PVD鍍膜等過程中提供穩(wěn)定的支撐力,有效維持芯片間距離,保障制程精度。

第二階段:智能減粘,輕松無損的分離(UV減粘階段)
在特定波長UV光照射后,精妙設(shè)計的分子結(jié)構(gòu)被精確激活,膠層在指定界面迅速發(fā)生可控反應(yīng),粘性大幅降低,實現(xiàn)輕松、潔凈、無損的剝離。

在精密制造領(lǐng)域,特別是半導(dǎo)體晶圓加工、芯片轉(zhuǎn)移、精密切割等制程中,如何在提供強力保護后實現(xiàn)高效、無損、無殘留的剝離,一直是行業(yè)面臨的重大挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)膠粘方案常常受限于剝離力過大、易損傷脆弱的晶圓或基材,以及難以避免的殘膠等問題,直接影響了產(chǎn)品良率和生產(chǎn)成本。

半導(dǎo)體制造中,UV 減粘膠的核心作用是為精密制程提供 “臨時高強度粘結(jié) + UV 觸發(fā)后無損、無殘留剝離” 的解決方案,在晶圓切割、芯片分選與轉(zhuǎn)移、晶圓級封裝、掩模版臨時固定等場景都有廣泛應(yīng)用。


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