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      電子發(fā)燒友網(wǎng)>電子資料下載>模擬數(shù)字>超大規(guī)模集成電路技術(shù)

      超大規(guī)模集成電路技術(shù)

      2009-02-13 | rar | 9605 | 次下載 | 10積分

      資料介紹

      超大規(guī)模集成電路技術(shù)系統(tǒng)地介紹了超大規(guī)模集成電路工藝?yán)碚摵凸に嚪椒?。全書共九章，包括光刻、摻雜、氧化及熱處理、薄膜工藝基礎(chǔ)與物理氣相沉積、化學(xué)汽相沉積、刻蝕、平坦化與多重內(nèi)連線工藝及超大規(guī)模集成電路工藝匯總等。重點(diǎn)介紹亞微米、半亞微米前道加工技術(shù)及相關(guān)工藝設(shè)備，也介紹了特征尺寸達(dá)到0.18μm、硅圓晶片直徑為300mm(12英寸）及256Mb DRAM的有關(guān)動(dòng)態(tài)。

      本書可作為高等院校半導(dǎo)體、電子工程、固體物理等相關(guān)專業(yè)的教材或教學(xué)參考書，也可供從事超大規(guī)模集成電路研究、生產(chǎn)的科技人員及超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)設(shè)備的研究、生產(chǎn)，技術(shù)支持人員參考。

      "超大規(guī)模集成電路技術(shù)基礎(chǔ)"的圖書目錄……緒論
      第一章 硅的晶體結(jié)構(gòu)
      第二章 光刻
      第三章 摻雜
      第四章 氧化及熱處理
      第五章 薄膜工藝基礎(chǔ)與物理氣相沉積
      第六章 化學(xué)汽相沉積（VCD）
      第七章 刻蝕
      第八章 平坦化及多重內(nèi)連線工藝
      第九章 超大規(guī)模集成電路工藝匯總

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