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標簽 > 光刻機
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微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版掩膜版(Photomask)又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版,是圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等...
半導體設(shè)備主要應用于集成電路的制造和封測環(huán)節(jié),可細分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備)和封裝、測試設(shè)備(后道設(shè)備)。其中,前道設(shè)備主要有光刻機、刻蝕機、薄膜沉積...
光刻與光刻機 ?對準和曝光在光刻機(Lithography Tool)內(nèi)進行。 ?其它工藝在涂膠顯影機(Track)上進行。 光刻機結(jié)...
2023-12-19 標簽:控制系統(tǒng)IC設(shè)計測量系統(tǒng) 1.3k 0
納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌饪坦に嚕亲钣邢M〈鷺O紫外光的新一代工藝。最近,海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機,進行了大規(guī)模生產(chǎn),并取...
光刻機中的投影物鏡一般由凸透鏡、凹透鏡和棱鏡等一系列透鏡組成,其作用是將光源發(fā)出的光束進行聚焦和投射。在光刻機中,投影物鏡將掩模版上的電路圖案縮小到一定...
芯片封裝為什么要用到*** 封裝***與芯片***的區(qū)別
在芯片制造過程中,光刻機用于在硅片上形成光刻膠圖形,作為制造電路的模板。光刻機使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻膠,并通過投影光學系統(tǒng)將圖形投射到硅片...
2023-09-12 標簽:芯片制造芯片封裝光學系統(tǒng) 3.4k 0
濕法去膠液的種類有哪些?去膠液都有哪些種類?去膠原理是什么?
光刻技術(shù)通過光刻膠將圖案成功轉(zhuǎn)移到硅片上,但是在相關(guān)制程結(jié)束后就需要完全除去光刻膠,那么這個時候去膠液就發(fā)揮了作用,那么去膠液都有哪些種類?去膠原理是什么?
在上一節(jié)計算光學小講堂中,我們學習了光源掩模協(xié)同優(yōu)化(source mask co-optimization, SMO)的相關(guān)知識。這一節(jié)我們將主要探索...
2023-09-01 標簽:OPC光學系統(tǒng)光刻機 7.9k 0
上海伯東客戶某光刻機生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機 Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和...
2023-06-02 標簽:光刻機檢漏氦質(zhì)譜檢漏儀 1.4k 0
電鍍技術(shù)應用廣泛。電鍍技術(shù)是現(xiàn)代微電子制造中的重要技術(shù),廣泛應用于PCB制造、IC封裝等領(lǐng)域
2023-08-24 標簽:轉(zhuǎn)換器IC封裝電解液 1.6k 0
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