CSEAC 2025 以 “專業(yè)化、產(chǎn)業(yè)化、國際化” 為宗旨,涵蓋展覽展示、主旨論壇、專題論壇、圓桌對話、產(chǎn)業(yè)上下游對接會、人才招聘會、高??蒲谐晒埂⑵髽I(yè)人力資源宣講會等多項活動。在 CSEAC 2025 功率及化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇上,來自中電化合物半導(dǎo)體有限公司、江南大學(xué)、上海芯導(dǎo)電子科技股份有限公司(以下簡稱 “芯導(dǎo)電子”)等機構(gòu)的嘉賓,分享了相關(guān)主體在國產(chǎn)氮化鎵器件領(lǐng)域取得的進展。嘉賓們從材料外延、器件集成、應(yīng)用落地等關(guān)鍵環(huán)節(jié),系統(tǒng)呈現(xiàn)了國產(chǎn) GaN 器件從技術(shù)突破到產(chǎn)業(yè)協(xié)同的全鏈條進展,勾勒出中國在第三代半導(dǎo)體核心領(lǐng)域的自主化發(fā)展藍圖。
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中電化合物半導(dǎo)體:錨定外延根基,多襯底路線拓寬產(chǎn)業(yè)賽道
作為產(chǎn)業(yè)鏈上游的關(guān)鍵力量,中電化合物半導(dǎo)體有限公司(以下簡稱 “中電化合物半導(dǎo)體”)副總經(jīng)理唐軍在分享中,直指 GaN 器件的 “源頭核心”—— 外延材料技術(shù)。中電化合物半導(dǎo)體是由中國電子信息產(chǎn)業(yè)集團下屬公司華大半導(dǎo)體有限公司主導(dǎo)投資的高科技企業(yè),致力于寬禁帶半導(dǎo)體材料的開發(fā)與生產(chǎn),成立于 2019 年 11 月。官方資料顯示,該公司已在杭州灣新區(qū)數(shù)字經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)園建成包含百級超凈車間的材料生產(chǎn)線,正式向國內(nèi)外市場供應(yīng)商業(yè)化 4-8 英寸碳化硅(SiC)和 GaN 材料。?
在硅基 GaN 外延方向,國產(chǎn)技術(shù)已邁入產(chǎn)業(yè)化深水區(qū)。唐軍提到,國內(nèi)企業(yè)已實現(xiàn) 8 英寸硅基 GaN 外延片的量產(chǎn)突破:英諾賽科成為國內(nèi)首家基于 8 英寸硅基 GaN 完成全產(chǎn)業(yè)鏈布局并上市的企業(yè);晶湛半導(dǎo)體更將技術(shù)拓展至 12 英寸,可提供適配 Micro LED 藍綠光、功率器件的大尺寸外延片。國際巨頭如英飛凌也已宣布開發(fā) 12 英寸硅基 GaN 晶圓技術(shù),而國產(chǎn)企業(yè)在工藝穩(wěn)定性與成本控制上的優(yōu)勢,正逐步縮小與國際水平的差距。
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目前,石英(QST)、藍寶石等試驗性襯底已進入小批量應(yīng)用階段。以藍寶石基 GaN 外延為例,該技術(shù)依托 LED 領(lǐng)域的成熟技術(shù)積累,正快速向功率器件方向滲透。唐軍表示,國內(nèi)西電廣研院等機構(gòu)已在 6 英寸、8 英寸藍寶石襯底上實現(xiàn) GaN 功率器件的關(guān)鍵突破,外延片的晶體質(zhì)量、均勻性均達到商用標準,未來有望成為中低壓功率場景的 “性價比之選”。
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在射頻器件核心的碳化硅基 GaN 外延領(lǐng)域,中電化合物半導(dǎo)體自身已深耕五年,實現(xiàn)了 4 英寸、6 英寸半絕緣碳化硅襯底上 GaN 異質(zhì)結(jié)的穩(wěn)定供應(yīng)。其制備的外延片遷移率優(yōu)異,可滿足 5G 基站功率放大器(PA)等高端射頻器件需求。更值得關(guān)注的是,深圳平湖實驗室最新發(fā)布的 “四度偏角導(dǎo)電碳化硅襯底 GaN 外延” 技術(shù) —— 通過創(chuàng)新襯底切割角度,在導(dǎo)電碳化硅襯底上實現(xiàn)了與半絕緣襯底相近的異質(zhì)結(jié)性能。這一技術(shù)不僅為降級碳化硅襯底開辟了新應(yīng)用場景,更顯著降低了射頻 GaN 器件的襯底成本。
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江南大學(xué):聚焦異質(zhì)集成與輻照特性,拓展 GaN 器件應(yīng)用邊界
江南大學(xué)黃偉教授的報告,從 “器件功能拓展” 與 “極端環(huán)境適應(yīng)性” 兩個維度,為國產(chǎn) GaN 器件的技術(shù)創(chuàng)新提供了新視角。其團隊在 GaN 高電子遷移率晶體管(HEMTs)/NPN 異質(zhì)集成與輻照特性研究上的成果,打破了傳統(tǒng) GaN 器件以表面型 HEMT 為主的技術(shù)局限,為 GaN 在高精度電路、抗輻射場景的應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。?
在異質(zhì)集成方面,黃偉教授團隊與中電化合物半導(dǎo)體合作,通過 “選區(qū)外延技術(shù)”,在 GaN HEMT 材料上原位生長 NPN 器件結(jié)構(gòu),成功制備出 GaN 雙極晶體管(BGT)器件。該器件突破了寬禁帶半導(dǎo)體導(dǎo)通電壓高的痛點 —— 導(dǎo)通電壓僅 1V 左右,較傳統(tǒng) GaN HEMT(1.5V)降低 30% 以上;且溫度系數(shù)低,在 300K-400K 范圍內(nèi)性能穩(wěn)定性優(yōu)異,理想因子控制在 1.1-1.4,電流增益(β)可達 800 以上,遠超傳統(tǒng)縱向器件的增益水平,有望作為核心器件應(yīng)用于高精度基準電壓源。
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在輻照特性研究上,黃偉教授團隊發(fā)現(xiàn)了 GaN BGT 與傳統(tǒng) GaN HEMT 截然不同的 “抗輻射機理”:傳統(tǒng) GaN HEMT 經(jīng)總劑量輻照后,界面態(tài)密度升高,閾值電壓漂移明顯,甚至出現(xiàn) “電壓控制向電流控制” 的失效模式;而 GaN BGT 經(jīng)輻照后,電流增益(β)反而提升,缺陷密度降低近 50%,能級向表面遷移,展現(xiàn)出 “輻照修復(fù)缺陷” 的獨特特性,抗輻射能力顯著優(yōu)于 HEMT 器件。
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芯導(dǎo)電子:深耕應(yīng)用落地,多結(jié)構(gòu) GaN 器件開啟規(guī)模化出貨
芯導(dǎo)電子第三代產(chǎn)品線負責(zé)人龐亞楠的分享,將論壇焦點從 “技術(shù)研發(fā)” 拉向 “產(chǎn)業(yè)落地”,系統(tǒng)呈現(xiàn)了國產(chǎn) GaN 功率器件從實驗室走向市場的實戰(zhàn)成果。截至目前,芯導(dǎo)電子已實現(xiàn)四類 GaN 器件結(jié)構(gòu)的量產(chǎn),覆蓋消費電子、家電、機器人等多場景需求。?
在共源共柵(Cascode)結(jié)構(gòu) GaN 器件領(lǐng)域,芯導(dǎo)電子發(fā)揮自身工藝優(yōu)勢,開發(fā)出采用后氧工藝的肖特基隧穿晶體管(STT MOS),將閾值電壓提升至 4V 以上,高溫可靠性與靜電放電(ESD)能力顯著增強;同時通過封裝優(yōu)化實現(xiàn) “PIN to PIN” 設(shè)計,可直接替代傳統(tǒng)超級 MOS,解決了客戶的替換成本問題,目前已在 PD 快充、小家電領(lǐng)域大規(guī)模出貨。
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在 P 型 GaN 增強模式(E-mode)系列方面,芯導(dǎo)電子已完成三代技術(shù)平臺迭代。第三代平臺引入 “P 正導(dǎo)技術(shù)”,有效平衡電場與熱電子效應(yīng),大幅縮小芯片面積 —— 以 700V 器件為例,芯片面積可縮小至傳統(tǒng)超級 MOS 的 1/3-1/4,折合單顆成本已低于超級 MOS,徹底打破 “GaN 器件成本高” 的行業(yè)認知,為家電、工業(yè)電源領(lǐng)域的大規(guī)模替代鋪平道路。
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針對雙向?qū)ㄅc耐壓需求,芯導(dǎo)電子開發(fā)出兩類創(chuàng)新結(jié)構(gòu):在低壓場景(40V-100V),通過優(yōu)化柵源間距,實現(xiàn)單顆 GaN 器件替代兩顆背靠背 MOS,已在掃地機、手機快充、機器人激光雷達領(lǐng)域量產(chǎn),成為全球第二家實現(xiàn)該類器件規(guī)模化出貨的企業(yè);在高壓場景,開發(fā)雙柵結(jié)構(gòu) GaN 器件,通過共用柵漏耐壓區(qū)域,芯片面積減小 40% 以上,可替代四顆絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)組成的整流電路,目前已進入樣品驗證階段。
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龐亞楠強調(diào),芯導(dǎo)電子的技術(shù)路線始終以 “客戶需求” 為導(dǎo)向 ——2025 年重點布局的 8 英寸 GaN 平臺、900V 系列器件,將進一步覆蓋數(shù)據(jù)中心電源、車載充電器等中高壓場景;而在高端機器人領(lǐng)域,采用六顆 GaN 器件的電機驅(qū)動方案,已實現(xiàn) “高精度、集成化、低功耗” 的應(yīng)用目標,未來有望成為機器人關(guān)節(jié)電機的主流解決方案。
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