臺(tái)積電日前公布了2020年Q4季度財(cái)報(bào)，營(yíng)收為3615.3億元新臺(tái)幣，同比增長(zhǎng)14.0%。凈利潤(rùn)為1427.7億元新臺(tái)幣，同比增長(zhǎng)23.0%。

營(yíng)收大漲的同時(shí)，臺(tái)積電2021年的資本支出也創(chuàng)紀(jì)錄了，將從去年的170億美元大幅提升到250-280億美元，增幅遠(yuǎn)超紀(jì)錄。

這么大手筆投入主要是因?yàn)橄乱淮に嚒?nm工藝太燒錢了，這些開(kāi)支中的150億美元都是用于3nm工藝的，包括研發(fā)及建廠。

3nm節(jié)點(diǎn)的技術(shù)難度增大，對(duì)EUV光刻機(jī)及其他半導(dǎo)體設(shè)備的要求也高了，這些都是需要砸錢，1臺(tái)EUV光刻機(jī)就要1億歐元以上了，3nm工藝全線都要用上EUV光刻工藝，而且層數(shù)從5nm工藝的14層提升到20層，每增加一層都是巨大的成本。

根據(jù)臺(tái)積電之前的說(shuō)法，3nm工藝相比5nm工藝可提升70%的晶體管密度，性能提升10-15%，功耗降低25-30%。

對(duì)于量產(chǎn)時(shí)間，臺(tái)積電表示會(huì)在2022年下半年量產(chǎn)，但最近有傳聞稱三星及臺(tái)積電的3nm工藝都遇到問(wèn)題了，要延期，通常臺(tái)積電會(huì)在Q3季度量產(chǎn)新工藝，因?yàn)橐浜咸O果的秋季發(fā)布會(huì)。

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