2023年8月30日，由中國光學光電子行業(yè)協(xié)會液晶分會、日經(jīng)BP主辦，中國知名電子信息產(chǎn)業(yè)咨詢公司CINNO Research戰(zhàn)略合作，以“突破邊界·創(chuàng)變無限”為主題的第三屆“2023國際Mini/MicroLED供應鏈創(chuàng)新發(fā)展峰會”在上海成功舉辦。

芯碁微電子裝備股份有限公司副總經(jīng)理曲魯杰在會上以《AM Mini LED數(shù)字背光開啟LCD顯示新章節(jié)》為題的演講。

在面板顯示領(lǐng)域，目前主要使用投影光刻和漸進式光刻設備。然而，在2019年，芯碁微電子裝備股份有限公司承接了國家工業(yè)項目，在OLED 6代線上開發(fā)了直寫光刻設備，并已完成高世代線的研發(fā)并進行客戶驗證。

芯碁微電子裝備股份有限公司是一家專注于直寫光刻裝備研發(fā)和生產(chǎn)的高科技公司，主要應用于泛半導體和PCB領(lǐng)域。在泛半導體領(lǐng)域，直寫光刻技術(shù)競爭激烈，而在面板領(lǐng)域，芯碁微擁有領(lǐng)先優(yōu)勢，其一直在不斷拓展和應用該技術(shù)。他們以直寫光刻為平臺，擴展到各個細分領(lǐng)域，包括芯片制作、生物芯片、3D器件、光電傳感器、光波導、光電封裝等，以及PCB領(lǐng)域的整個生產(chǎn)線。

直寫光刻技術(shù)對大多數(shù)人來說還是比較陌生，因此曲魯杰首先簡要介紹了該技術(shù)。直寫光刻技術(shù)與傳統(tǒng)投影光刻技術(shù)不同，不需要掩模板，因此具有高速度和高分辨率的優(yōu)勢。他提到，直寫光刻技術(shù)可分為激光直寫和電子直寫，分辨率可達15納米制板。此外，目前還有兩種主要的直寫光刻技術(shù)，一種是基于大平面的，另一種是基于傳感器的，如DMD，用于數(shù)字掩模的生成。

據(jù)了解，直寫光刻設備的組成包括激光系統(tǒng)、DMD、成像系統(tǒng)和專門的調(diào)膠系統(tǒng)。通過如多頭、增加曝光容量、提高掃描速度和調(diào)制頻率等技術(shù)手段，可以有效提高產(chǎn)能，改善直寫光刻設備的生產(chǎn)效率。

曲魯杰隨后詳細解釋了直寫光刻的工作原理，包括數(shù)字化過程，圖形的設計和曝光過程。此外他還介紹了傾斜掃描技術(shù)，目的是提高分辨率。面對處理大量數(shù)據(jù)的挑戰(zhàn)，其表示將會采取處理曝光和數(shù)據(jù)同時進行的方式來應對這一挑戰(zhàn)。

在應用方面，曲魯杰分享了直寫光刻技術(shù)在多個領(lǐng)域的案例。首先，芯碁微完成了國家的長期項目，即六代項目。該項目中，應用了直寫光刻技術(shù)，實現(xiàn)了1.5微米的分辨率。設備規(guī)模巨大，達到1.9×1.5米，重達30噸，用于生產(chǎn)面板顯示設備，采用了國產(chǎn)自主技術(shù)和國內(nèi)生產(chǎn)的平臺。

在OLED領(lǐng)域，芯碁微應用直寫光刻技術(shù)于硅基的OLED生產(chǎn)線，為維信諾等公司提供了設備。其分辨率達到了0.7微米，在2018年就已經(jīng)成功應用；OLED FMM制版設備在六代線上應用，具備1.9×1.5米的規(guī)模，能夠?qū)崿F(xiàn)30微米左右的開窗和5微米的圖形精度，以及總長精度達到15微米。這些設備用于制造金屬掩模板，廣泛應用于OLED生產(chǎn)中。

此外芯碁微還在PCB領(lǐng)域直接制造PD板，為Mini LED和MicroLED等領(lǐng)域提供了廣泛的應用。目前正在研發(fā)六代線的大型設備，用于在玻璃基板上進行制造。

據(jù)曲魯杰介紹，他們對用于玻璃基制造的設備進行大量測試，尤其是在白油、undercut和開窗方面，該設備能夠?qū)崿F(xiàn)100微米左右的開窗和正負15微米的圖形精度。同時在PCB基板上進行了黑油方面的測試。在厚膠情況下，他們實現(xiàn)了undercut在50%以內(nèi)，開窗品質(zhì)在正負12微米以內(nèi)。這些結(jié)果表明直寫光刻技術(shù)對于玻璃基板與PCB基板制造都具有重要作用。

直寫光刻技術(shù)在面板顯示領(lǐng)域是具有廣泛應用潛力的，芯碁微在這領(lǐng)域的研發(fā)與創(chuàng)新能力讓其處于行業(yè)的領(lǐng)先位置。曲魯杰強調(diào)：“直寫光刻技術(shù)的高分辨率、高效率和多領(lǐng)域適用性將會使其成為當前面板制造業(yè)的重要工具。”

審核編輯：湯梓紅