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標簽 > 刻蝕
刻蝕,英文為Etch,它是半導體制造工藝,微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻 [1] 相聯(lián)系的圖形化(pattern)處理的一種主要工藝。所謂刻蝕,實際上狹義理解就是光刻腐蝕,先通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理,然后通過其它方式實現(xiàn)腐蝕處理掉所需除去的部分。
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相較于傳統(tǒng)CMOS工藝,TSV需應對高深寬比結構帶來的技術挑戰(zhàn),從激光或深層離子反應刻蝕形成盲孔開始,經(jīng)等離子體化學氣相沉積絕緣層、金屬黏附/阻擋/種子...
本文簡單介紹了連續(xù)波和脈沖波的概念、連續(xù)波電流與脈沖波電源的定義以及脈沖波電源相對于連續(xù)波的電源模式的優(yōu)勢。 相對于連續(xù)波的電源模式,脈沖模式的優(yōu)勢有哪...
半導體濕法刻蝕過程中殘留物的形成,其背后的機制涵蓋了化學反應、表面交互作用以及側壁防護等多個層面,下面是對這些機制的深入剖析: 化學反應層面 1 刻蝕劑...
中微公司重磅發(fā)布六大半導體設備新產(chǎn)品 覆蓋等離子體刻蝕(Etch)、原子層沉積(ALD)及外延(EPI)等關鍵
? 中國無錫,2025年9月4日 —— 在第十三屆半導體設備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)上,中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱 ...
11家半導體設備企業(yè)H1:刻蝕設備狂賣50億,最高凈利潤暴漲73%
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/莫婷婷)近期,多家上市半導體設備公司均已公布上半年的財報數(shù)據(jù)。電子發(fā)燒友網(wǎng)統(tǒng)計了北方華創(chuàng)、中微公司、盛美上海、屹唐股份、華海清科、...
在MEMS中,玻璃因具有良好的絕緣性、透光性、化學穩(wěn)定性及可鍵合性(如與硅陽極鍵合),常被用作襯底、封裝結構或微流體通道基板。玻璃刻蝕是制備這些微結構的...
金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應用及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量也是確保制造質量的關鍵。...
在刻蝕清洗機中,熱電阻可以用于溫度監(jiān)測和控制,但需根據(jù)具體應用場景和需求選擇合適類型,并注意其局限性。以下是詳細分析: 1. 熱電阻的適用性 溫度測量:...
芯片刻蝕是半導體制造中的關鍵步驟,用于將設計圖案從掩膜轉移到硅片或其他材料上,形成電路結構。其原理是通過化學或物理方法去除特定材料(如硅、金屬或介質層)...
ICP(Inductively Coupled Plasma,電感耦合等離子體)刻蝕技術是半導體制造中的一種關鍵干法刻蝕工藝,廣泛應用于先進集成電路、M...
半導體BOE(Buffered Oxide Etchant,緩沖氧化物蝕刻液)刻蝕技術是半導體制造中用于去除晶圓表面氧化層的關鍵工藝,尤其在微結構加工、...
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