晶片是LED最主要的原物料之一,是LED的發(fā)光部件,LED最核心的部分,晶片的好壞將直接決定LED的性能。晶片是由是由Ⅲ和Ⅴ族復合半導體物質(zhì)構(gòu)成。在LED封裝時,晶片來料呈整齊排列在晶片膜上。
晶片技術(shù)
GaAs的濕法蝕刻和光刻工藝
本文主要闡述我們?nèi)A林科納在補救InGaP/GaAs NPN HBT的噴霧濕法化學腐蝕過程中光刻膠粘附失效的幾個實驗的結(jié)果。確定了可能影響粘附力的幾個因素...
2022-07-12
標簽:光刻蝕刻晶片
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硅和SiO2的濕化學蝕刻機理
蝕刻機理 諸如KOH-、NaOH-或TMAH-溶液的強含水堿性介質(zhì)蝕刻晶體硅通孔 硅+ 2 OH- + 2 H O ?硅(OH) + H ?二氧化硅(O...
2022-07-11
標簽:蝕刻晶片SiO2
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濕法蝕刻在硅片減薄中的作用
薄晶片已經(jīng)成為各種新型微電子產(chǎn)品的基本需求。這些產(chǎn)品包括用于RFID系統(tǒng)的功率器件、分立半導體、光電元件和集成電路。此外,向堆疊管芯組件的轉(zhuǎn)變、垂直系統(tǒng)...
2022-07-05
標簽:工藝蝕刻晶片
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蝕刻后殘留物和光刻膠的去除方法
在未來幾代器件中,光刻膠(PR)和殘留物的去除變得非常關(guān)鍵。在前端制程(FEOL)離子注入后(源極/漏極、擴展、haIos、深阱),使用PR封閉部分電路...
2022-07-04
標簽:蝕刻晶片光刻膠
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TSV工藝流程與電學特性研究
本文報道了TSV過程的細節(jié)。還顯示了可以在8-in上均勻地形成許多小的tsv(直徑:6 m,深度:22 m)。通過這種TSV工藝的晶片。我們?nèi)A林科納研究...
2022-06-16
標簽:工藝蝕刻晶片
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硝酸濃度對硅晶片總厚度和重量損失的影響
新的微電子產(chǎn)品要求硅(Si)晶片變薄到厚度小于150 μm。機械研磨仍然會在晶片表面產(chǎn)生殘余缺陷,導致晶片破裂,表面粗糙。因此,化學蝕刻方法主要用于生產(chǎn)...
2022-06-14
標簽:集成電路蝕刻晶片
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濕法清洗過程中的顆粒沉積和去除研究
摘要 溶液中晶片表面的顆粒沉積。然而,粒子沉積和清除機制液體。在高離子中觀察到最大的粒子沉積:本文將討論粒子沉積的機理酸性溶液的濃度,并隨著溶液pH值的...
2022-06-01
標簽:半導體晶片
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KOH和TMAH溶液中凸角蝕刻特性研究
在濕法各向異性蝕刻中,底切凸角的蝕刻輪廓取決于蝕刻劑的類型。已經(jīng)進行了大量的研究來解釋這種凸角底切并確定底切平面的方向。然而,還不清楚為什么不同蝕刻劑會...
2022-05-24
標簽:蝕刻晶片溶液
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多晶ZnO:Al薄膜的蝕刻特性研究
將ZnO:Al薄膜織構(gòu)化與沉積條件的依賴性分開是優(yōu)化ZnO作為太陽能電池中的光散射、透明接觸的一個重要方面。對于給定的多晶ZnO:Al薄膜,凹坑的密度和...
2022-05-23
標簽:薄膜蝕刻晶片
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污染和清洗順序?qū)A性紋理化的影響
本文介紹了我們?nèi)A林科納研究了污染和清洗順序?qū)A性紋理化的影響。硅表面專門暴露在有機和金屬污染中,以研究它們對堿性紋理化過程的影響,由此可見,無機污染對金...
2022-05-18
標簽:晶片清洗刻蝕
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晶片濕法刻蝕技術(shù)研究
文介紹了我們?nèi)A林科納研究了整個濕蝕過程中的完整性,它給出了一些確保這種保護的提示,并提出了評估這種保護的相關(guān)新方法,用光刻膠制作材料的濕圖案需要材料的完...
2022-05-16
標簽:蝕刻晶片
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晶片清洗和熱處理對硅片直接鍵合的影響
本實驗通過這兩種清洗方法進行標識分為四個實驗組,進行了清洗實驗及室溫接合, 以上工藝除熱處理工藝外,通過最小化工序內(nèi)部時間間隔,抑制清洗的基板表面暴露在...
2022-05-16
標簽:晶片硅片鍵合
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一種將硅和石英玻璃晶片的鍵合方法
本文展示了一種使用連續(xù)濕法化學表面活化(即SPM→RCAl清洗)結(jié)合硅和石英玻璃晶片的鍵合方法。經(jīng)過200 ℃的多步后退火,獲得了無空洞或微裂紋的牢固結(jié)...
2022-05-13
標簽:工藝晶片鍵合
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詳解化學鎳沉積技術(shù)的沉積過程
本文報道了這種化學鎳的形成,包括在100pm以下的模具,通過掃描電鏡檢查,研究了各種預處理刻蝕過程和鋅酸鹽活化對最終化學鎳碰撞質(zhì)量的影響,以幫助詳細了解...
2022-05-13
標簽:工藝晶片刻蝕
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光致抗蝕劑剝離和清洗對器件性能的影響
退火后對結(jié)特性的剝離和清潔對于實現(xiàn)預期和一致的器件性能至關(guān)重要,發(fā)現(xiàn)光致抗蝕劑剝離和清洗會導致:結(jié)蝕刻、摻雜劑漂白和結(jié)氧化,植入條件可以增強這些效應,令...
2022-05-06
標簽:蝕刻晶片清洗
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