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標(biāo)簽 > 碳化硅
金剛砂又名碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時(shí)需要加食鹽)等原料通過電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見的礦物,莫桑石。
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SiC碳化硅的崛起:現(xiàn)代戶用混合逆變器拓?fù)?、趨勢及器件?jí)集成技術(shù)解析
傾佳電子SiC碳化硅的崛起:現(xiàn)代戶用混合逆變器拓?fù)洹②厔菁捌骷?jí)集成技術(shù)解析 傾佳電子(Changer Tech)是一家專注于功率半導(dǎo)體和新能源汽車連接...
大尺寸玻璃晶圓(12 英寸 +)TTV 厚度均勻性提升技術(shù)
一、引言 12 英寸及以上的大尺寸玻璃晶圓在半導(dǎo)體制造、顯示面板、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域扮演著關(guān)鍵角色 。總厚度偏差(TTV)的均勻性直接影響晶圓后續(xù)光刻、...
在功率電子領(lǐng)域,碳化硅(SiC)器件以其優(yōu)異的性能正逐漸取代傳統(tǒng)硅基器件。然而,SiCMOSFET和SiC二極管在實(shí)際應(yīng)用中卻面臨一種特殊的可靠性挑戰(zhàn)—...
800VDC,AI能效之鑰:AOS創(chuàng)新功率組合方案
AOS公司以創(chuàng)新方案賦能新一代AI數(shù)據(jù)中心800V直流(800VDC)電源架構(gòu)——碳化硅、氮化鎵、功率MOSFET及電源IC解決方案構(gòu)建高效能源基石。 ...
【新啟航】深度學(xué)習(xí)在玻璃晶圓 TTV 厚度數(shù)據(jù)智能分析中的應(yīng)用
一、引言 玻璃晶圓總厚度偏差(TTV)是衡量晶圓質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),其精確分析對半導(dǎo)體制造、微流控芯片等領(lǐng)域至關(guān)重要 。傳統(tǒng) TTV 厚度數(shù)據(jù)分析方法依賴...
2025-10-11 標(biāo)簽:晶圓碳化硅深度學(xué)習(xí) 105 0
【新啟航】玻璃晶圓 TTV 厚度在光刻工藝中的反饋控制優(yōu)化研究
一、引言 玻璃晶圓在半導(dǎo)體制造、微流控芯片等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,光刻工藝作為決定器件圖案精度與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié),對玻璃晶圓的質(zhì)量要求極為嚴(yán)苛 ??偤穸绕睿═...
三代半碳化硅(SiC)外延層厚度及均勻性無損檢測技術(shù)的詳解
前段時(shí)間,因?yàn)槲抑霸谀称脚_(tái)上分享了一篇關(guān)于“ 半導(dǎo)體 碳化硅 (SiC)同質(zhì)外延層厚度無損 紅外反射光譜法 的分析詳解; ”的文章而被很多同行或是有興...
2025-10-01 標(biāo)簽:無損檢測技術(shù)碳化硅外延片 14 0
【新啟航】玻璃晶圓 TTV 厚度測量數(shù)據(jù)異常的快速定位與解決方案
一、引言 玻璃晶圓總厚度偏差(TTV)測量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,對半導(dǎo)體器件、微流控芯片等產(chǎn)品的質(zhì)量把控至關(guān)重要 。在實(shí)際測量過程中,數(shù)據(jù)異常情況時(shí)有發(fā)生,不...
[新啟航]碳化硅 TTV 厚度測量技術(shù)的未來發(fā)展趨勢與創(chuàng)新方向
一、引言 碳化硅(SiC)作為寬禁帶半導(dǎo)體材料的代表,在功率器件、射頻器件等領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用??偤穸绕睿═TV)是衡量碳化硅襯底及外延片質(zhì)量的重要指...
【新啟航】大尺寸碳化硅(150mm+)TTV 厚度均勻性提升技術(shù)
一、引言 隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,碳化硅(SiC)作為關(guān)鍵的寬禁帶半導(dǎo)體材料,其應(yīng)用愈發(fā)廣泛。大尺寸碳化硅(150mm+)晶圓在提高芯片生產(chǎn)效率、降...
傾佳電子技術(shù)報(bào)告:基本半導(dǎo)體34mm碳化硅(SiC)功率模塊產(chǎn)品線深度分析及在關(guān)鍵工業(yè)應(yīng)用中的技術(shù)潛力評(píng)估 傾佳電子(Changer Tech)是一家專...
【新啟航】碳化硅外延片 TTV 厚度與生長工藝參數(shù)的關(guān)聯(lián)性研究
一、引言 碳化硅外延片作為功率半導(dǎo)體器件的核心材料,其總厚度偏差(TTV)是衡量產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),直接影響器件的性能與可靠性 。外延片的 TTV 厚...
2025-09-18 標(biāo)簽:碳化硅外延片功率半導(dǎo)體器件 378 0
PCIM2025論文摘要 | 太陽能系統(tǒng)的高效率碳化硅 MOSFET 解決方案
本論文摘要由PCIM官方授權(quán)發(fā)布內(nèi)容摘要隨著新能源技術(shù)的不斷發(fā)展,系統(tǒng)對電力電子變流器的要求也越來越高。高效率、高可靠性和高功率密度越來越受到設(shè)計(jì)人員的...
2025-09-17 標(biāo)簽:MOSFET碳化硅太陽能系統(tǒng) 681 0
面對電力電子應(yīng)用與日俱增的需求,高電壓系統(tǒng)研發(fā)工程師正更多地轉(zhuǎn)向采用碳化硅 (SiC) 方案,借助其固有的溫度特性和開關(guān)性能優(yōu)勢。工程師們常常面臨多方面...
【新啟航】碳化硅 TTV 厚度測量中的各向異性效應(yīng)及其修正算法
一、引言 碳化硅(SiC)憑借優(yōu)異的物理化學(xué)性能,成為功率半導(dǎo)體器件的核心材料??偤穸绕睿═TV)作為衡量 SiC 襯底質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),其精確測量對器...
基本半導(dǎo)體1200V工業(yè)級(jí)碳化硅MOSFET半橋模塊Pcore 2系列介紹
基本半導(dǎo)體推出62mm封裝的1200V工業(yè)級(jí)碳化硅MOSFET半橋模塊,產(chǎn)品采用新一代碳化硅MOSFET芯片技術(shù),在保持傳統(tǒng)62mm封裝尺寸優(yōu)勢的基礎(chǔ)上...
碳化硅 TTV 厚度在 CMP 工藝中的反饋控制機(jī)制研究
一、引言 化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝是實(shí)現(xiàn)碳化硅(SiC)襯底全局平坦化的關(guān)鍵技術(shù),對提升襯底質(zhì)量、保障后續(xù)器件性能至關(guān)重要??偤穸绕睿═TV)作為衡...
探針式與非接觸式碳化硅 TTV 厚度測量方法對比評(píng)測
一、引言 碳化硅(SiC)作為寬禁帶半導(dǎo)體材料,在功率器件、射頻器件等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。總厚度偏差(TTV)是衡量碳化硅襯底質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo),準(zhǔn)確測量 TTV...
【新啟航】碳化硅 TTV 厚度與表面粗糙度的協(xié)同控制方法
摘要 本文圍繞碳化硅晶圓總厚度變化(TTV)厚度與表面粗糙度的協(xié)同控制問題,深入分析二者的相互關(guān)系及對器件性能的影響,從工藝優(yōu)化、檢測反饋等維度提出協(xié)...
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