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標(biāo)簽 > 薄膜厚度
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在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測(cè)薄膜厚度測(cè)量?jī)xAF系列憑借高精度、高速度的...
薄膜厚度對(duì)異質(zhì)結(jié)電池光電轉(zhuǎn)換率的影響
異質(zhì)結(jié)電池的性能與其結(jié)構(gòu)和工藝有著密切關(guān)系。其中,薄膜厚度是一個(gè)重要的參數(shù),它直接影響了異質(zhì)結(jié)電池的光電轉(zhuǎn)換率。因此,研究薄膜厚度對(duì)異質(zhì)結(jié)電池光電轉(zhuǎn)換率...
在半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜及新能源材料等領(lǐng)域,精確測(cè)量薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)是材料表征的關(guān)鍵步驟。Flexfilm光譜橢偏儀(SpectroscopicEllips...
臺(tái)階儀在大面積硬質(zhì)涂層的應(yīng)用:精準(zhǔn)表征形貌與蝕刻 / 沉積結(jié)構(gòu)參數(shù)
PVD硬質(zhì)涂層的表面形貌直接影響其摩擦學(xué)、潤(rùn)濕性等功能性能,而精準(zhǔn)表征形貌特征是優(yōu)化涂層工藝的關(guān)鍵。臺(tái)階儀因可實(shí)現(xiàn)大掃描面積的三維形貌成像與粗糙度量化,...
優(yōu)可測(cè)白光干涉儀和薄膜厚度測(cè)量?jī)x:如何把控ITO薄膜的“黃金參數(shù)”
ITO薄膜的表面粗糙度與厚度影響著其產(chǎn)品性能與成本控制。優(yōu)可測(cè)亞納米級(jí)檢測(cè)ITO薄膜黃金參數(shù),幫助廠家優(yōu)化產(chǎn)品性能,實(shí)現(xiàn)降本增效。
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