半導體行業(yè)觀察

來源：內(nèi)容編譯自phonearena，謝謝。

根據(jù)TF International 分析師郭明淇在網(wǎng)上發(fā)布的一份報告，蘋果的 M 系列芯片即將采用全新的設計。一向可靠的郭明池表示，M5 系列芯片將由臺積電采用其第三代 N3P 3nm 工藝節(jié)點生產(chǎn)。郭明池表示，M5 將于明年上半年開始量產(chǎn)。2025 年下半年，M5 Pro/Max 將量產(chǎn)，M5 Ultra 將于 2026 年量產(chǎn)。

重大新聞是，據(jù)郭明錤稱，M5 Pro、M5 Max 和 M5 Ultra 將使用臺積電的新封裝，即 SoIC-mH（水平集成芯片成型系統(tǒng)）。這種封裝工藝將改善散熱性能（對于半導體而言，降低溫度始終很重要）和生產(chǎn)良率。想知道生產(chǎn)良率有多重要嗎？問問三星代工廠，其糟糕的生產(chǎn)良率可能已經(jīng)使其損失了一些業(yè)務。

更有趣的是高端 M5 系列硅片的設計變化，涉及使用單獨的 CPU（中央處理器）和 GPU（圖形處理器）芯片。智能手機上使用的應用處理器使用片上系統(tǒng) (SoC) 設計，將 CPU、GPU 和其他組件集成到單個芯片中。借助 SoIC-mH 封裝改善組件的散熱性能，芯片可以在需要節(jié)流以降低熱量之前以最大速度和功率運行更長時間。

另一方面，采用SoC設計可以減小集成芯片的尺寸。單個SoC芯片還可以實現(xiàn)芯片組件之間更快的通信，從而降低延遲。

郭在帖子中表示，蘋果將使用高端 M5 芯片為這家科技巨頭用于Apple Intelligence的私有云計算 (PCC) 服務器提供支持。郭表示，高端 M5 芯片比目前用于 PCC 服務器的芯片更適合 AI 應用。M2 Ultra 目前部署在蘋果的大多數(shù) PCC 服務器上。上個月的一份報告稱，蘋果正在與富士康洽談在臺灣建造新的 AI 服務器，該服務器將采用 M4 系列芯片組。

臺積電除了蘋果之外，還有其他客戶使用 SoIC 封裝（集成芯片系統(tǒng)）。雖然蘋果是臺積電最大的 SoIC 客戶，但 AMD 位居第二，其次是 AWS 和高通。

臺積電SoIC，進展神速

臺積電的 3D 堆疊系統(tǒng)級集成芯片 (SoIC) 先進封裝技術(shù)將快速發(fā)展。在該公司最近的技術(shù)研討會上，臺積電概述了一份路線圖，到 2027 年，該技術(shù)將從目前的 9μm 凸塊間距一路縮小到 3μm 間距，將 A16 和 N2 芯片組合堆疊在一起。

臺積電擁有多項先進封裝技術(shù)，包括 2.5D CoWoS 和 2.5D/3D InFO。也許最有趣（也是最復雜）的方法是他們的 3D 堆疊集成芯片系統(tǒng) (SoIC) 技術(shù)，這是臺積電對混合晶圓鍵合的實現(xiàn)。混合鍵合允許將兩個先進的邏輯器件直接堆疊在一起，從而實現(xiàn)兩個芯片之間的超密集（和超短）連接，主要針對高性能部件。目前，SoIC-X（無凸塊）用于特定應用，例如 AMD 的 CPU 3D V 緩存技術(shù)，以及他們的 Instinct MI300 系列 AI 產(chǎn)品。雖然采用率正在增長，但當前這一代技術(shù)受到芯片尺寸和互連間距的限制。

但如果一切按照臺積電的計劃進行，這些限制預計很快就會消失。SoIC-X 技術(shù)將快速發(fā)展，到 2027 年，將有可能組裝一個芯片，將臺積電尖端 A16（1.6 納米級）上制造的掩模版大小的頂部芯片與使用臺積電 N2（2 納米級）生產(chǎn)的底部芯片配對。這些芯片將依次使用 3μm 鍵合間距硅通孔 (TSV) 連接，密度是當今 9μm 間距的三倍。如此小的互連將允許總體上更大的連接數(shù)量，從而大大提高組裝芯片的帶寬密度（從而提高性能）。

改進的混合鍵合技術(shù)旨在讓臺積電的大型 HPC 客戶（AMD、博通、英特爾、NVIDIA 等）能夠為要求苛刻的應用構(gòu)建大型、超密集的分解式處理器設計，在這些應用中，芯片之間的距離至關(guān)重要，所用的總面積也很重要。同時，對于只注重性能的應用，可以將多個 SoIC-X 封裝放置在 CoWoS 中介層上，以更低功耗獲得更高的性能。

除了針對需要極高性能的設備開發(fā)無凸塊 SoIC-X 封裝技術(shù)外，臺積電還將在不久的將來推出凸塊 SoIC-P 封裝工藝。SoIC-P 專為更便宜的低性能應用而設計，這些應用仍需要 3D 堆疊，但不需要無凸塊銅對銅 TSV 連接帶來的額外性能和復雜性。這種封裝技術(shù)將使更廣泛的公司能夠利用 SoIC，雖然臺積電不能代表其客戶的計劃，但更便宜的技術(shù)版本可能會使其適用于更注重成本的消費者應用。

根據(jù)臺積電目前的計劃，到 2025 年，該公司將提供正面對背面 (F2B) 凸塊 SoIC-P 技術(shù)，該技術(shù)能夠?qū)?0.2 光罩大小的 N3（3 納米級）頂部芯片與 N4（4 納米級）底部芯片配對，并使用 25μm 間距微凸塊 (μbump) 進行連接。2027 年，臺積電將推出正面對背面 (F2F) 凸塊 SoIC-P 技術(shù)，該技術(shù)能夠?qū)?N2 頂部芯片放置在間距為 16μm 的 N3 底部芯片上。

為了讓 SoIC 在芯片開發(fā)商中更受歡迎、更容易獲得，還有很多工作要做，包括繼續(xù)改進其芯片到芯片接口。但臺積電似乎對行業(yè)采用 SoIC 非常樂觀，預計到 2026 年至 2027 年將發(fā)布約 30 種 SoIC 設計。

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審核編輯 黃宇