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標(biāo)簽 > 半導(dǎo)體
半導(dǎo)體( semiconductor),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體(conductor)與絕緣體(insulator)之間的材料。半導(dǎo)體在收音機(jī)、電視機(jī)以及測(cè)溫上有著廣泛的應(yīng)用。如二極管就是采用半導(dǎo)體制作的器件。半導(dǎo)體是指一種導(dǎo)電性可受控制,范圍可從絕緣體至導(dǎo)體之間的材料。無(wú)論從科技或是經(jīng)濟(jì)發(fā)展的角度來(lái)看,半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。
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在半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)追求更高性能、更低功耗的今天,一種名為“SOI(Silicon-On-Insulator)”的工藝技術(shù)逐漸成為行業(yè)焦點(diǎn)。無(wú)論是智能手機(jī)、...
在半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域,堆疊技術(shù)作為推動(dòng)高集成度與小型化的核心趨勢(shì),正通過垂直堆疊芯片或封裝實(shí)現(xiàn)更緊湊的封裝尺寸及優(yōu)化的電氣性能——其驅(qū)動(dòng)力不僅源于信號(hào)傳輸與...
熱載流子注入效應(yīng)(Hot Carrier Inject, HCI)是半導(dǎo)體器件(如晶體管)工作時(shí),高能電子或空穴突破材料勢(shì)壘、侵入絕緣層的物理現(xiàn)象。當(dāng)芯...
共聚焦顯微鏡作為半導(dǎo)體、材料科學(xué)等領(lǐng)域的重要成像設(shè)備,其核心優(yōu)勢(shì)在于突破傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的焦外模糊問題。光子灣科技深耕光學(xué)測(cè)量領(lǐng)域,其共聚焦顯微鏡技術(shù)優(yōu)勢(shì)...
MDD辰達(dá)半導(dǎo)體橋堆(BridgeRectifier)是電源電路中最基礎(chǔ)也是最關(guān)鍵的整流器件,它負(fù)責(zé)將交流電(AC)轉(zhuǎn)換為直流電(DC),為后級(jí)電路提供...
共聚焦顯微鏡在半導(dǎo)體硅晶圓檢測(cè)中的應(yīng)用
半導(dǎo)體制造工藝中,經(jīng)晶棒切割后的硅晶圓尺寸檢測(cè),是保障后續(xù)制程精度的核心環(huán)節(jié)。共聚焦顯微鏡憑借其高分辨率成像能力與無(wú)損檢測(cè)特性,成為檢測(cè)過程的關(guān)鍵分析工...
半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中,SC-1與SC-2作為RCA標(biāo)準(zhǔn)的核心步驟,分別承擔(dān)著去除有機(jī)物/顆粒和金屬離子的關(guān)鍵任務(wù)。二者通過酸堿協(xié)同機(jī)制實(shí)現(xiàn)污染物的分層剝...
SC-1和SC-2可以一起使用,但需遵循特定的順序和工藝條件。以下是其協(xié)同應(yīng)用的具體說明:分步實(shí)施的邏輯基礎(chǔ)SC-1的核心作用:由氨水(NH?OH)、過...
芯佰微 | 高源阻抗信號(hào)飄、長(zhǎng)期誤差大?多通道堆芯還費(fèi)電?CBM854x系列來(lái)解
運(yùn)算放大器作為電子系統(tǒng)的“信號(hào)調(diào)理中樞”,在便攜式設(shè)備、工業(yè)傳感、醫(yī)療儀器等領(lǐng)域不可或缺。但實(shí)際應(yīng)用中,低功耗與續(xù)航的矛盾、高源阻抗信號(hào)的失真、嚴(yán)苛環(huán)境...
2025-10-11 標(biāo)簽:半導(dǎo)體運(yùn)算放大器國(guó)產(chǎn)芯片 2.1k 0
【海翔科技】東京精密 TOKYO SEIMITSU Vega 系列二手探針臺(tái) Vega Planet|現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)機(jī)測(cè)試保障
一、引言 在高端半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備領(lǐng)域,東京精密 TOKYO SEIMITSU Vega 系列的 Vega Planet 探針臺(tái)以其全方位的性能表現(xiàn),成為復(fù)...
從3C電子到半導(dǎo)體封裝,微型導(dǎo)軌具備哪些優(yōu)勢(shì)?
微型導(dǎo)軌憑借超小體積、高負(fù)載能力及低摩擦特性,成為高精度設(shè)備中不可或缺的傳動(dòng)元件。
揭露半導(dǎo)體功率器件——PIM功率集成模塊,一文讀懂它的所有
前言在電力電子領(lǐng)域,高電壓、大電流場(chǎng)景對(duì)功率器件的集成度、可靠性與散熱性能提出了嚴(yán)苛要求。PIM(功率集成模塊)通過“多器件高密度封裝”的高集成設(shè)計(jì),將...
半導(dǎo)體制備中晶圓凹槽(Notch)與定位邊(Flat)工藝的詳解
同行都知道:晶圓,它是微電子產(chǎn)業(yè)的行業(yè)術(shù)語(yǔ)之一,英文稱作:Wafer。其中,高純度的硅(純度,99.99......,小數(shù)點(diǎn)后面9-11個(gè)9),一般被做...
共聚焦顯微鏡如何檢測(cè)半導(dǎo)體增材膜形貌與缺陷
在微電子、光電子等高端領(lǐng)域,半導(dǎo)體增材膜的性能與其三維形貌及內(nèi)部缺陷高度關(guān)聯(lián),表面粗糙度影響器件電學(xué)接觸穩(wěn)定性,孔隙、裂紋等缺陷則直接決定薄膜的機(jī)械強(qiáng)度...
金屬-半導(dǎo)體接觸電阻測(cè)量的TLM標(biāo)準(zhǔn)化研究:模型優(yōu)化與精度提升
Xfilm埃利測(cè)量專注于電阻/方阻及薄膜電阻檢測(cè)領(lǐng)域的創(chuàng)新研發(fā)與技術(shù)突破,致力于為全球集成電路和光伏產(chǎn)業(yè)提供高精度、高效率的量檢測(cè)解決方案。公司以核心技...
從實(shí)驗(yàn)室到應(yīng)用:半金屬與單層半導(dǎo)體接觸電阻的創(chuàng)新解決方案
金屬-半導(dǎo)體界面接觸電阻是制約半導(dǎo)體器件微縮化的關(guān)鍵問題。傳統(tǒng)金屬(如Ni、Ti)與二維半導(dǎo)體接觸時(shí),金屬誘導(dǎo)帶隙態(tài)(MIGS)導(dǎo)致費(fèi)米能級(jí)釘扎,形成肖...
2025-09-29 標(biāo)簽:半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室接觸電阻 290 0
臺(tái)階儀/橢偏儀在不同半導(dǎo)體關(guān)鍵工序中的計(jì)量技術(shù)與應(yīng)用
隨著半導(dǎo)體技術(shù)向高集成度與高性能方向不斷發(fā)展,工藝尺寸持續(xù)縮小,制造工藝對(duì)膜厚、線寬、臺(tái)階高度及電阻率等關(guān)鍵參數(shù)的測(cè)量精度提出了更高要求。然而,半導(dǎo)體測(cè)...
面向硅基產(chǎn)線:二維半導(dǎo)體接觸電阻的性能優(yōu)化
隨著硅基集成電路進(jìn)入后摩爾時(shí)代,二維過渡金屬硫化物(TMDCs,如MoS?、WS?)憑借原子級(jí)厚度、優(yōu)異的開關(guān)特性和無(wú)懸掛鍵界面,成為下一代晶體管溝道材...
半導(dǎo)體歐姆接觸工藝 | MoGe?P?實(shí)現(xiàn)超低接觸電阻的TLM驗(yàn)證
二維半導(dǎo)體因其原子級(jí)厚度和獨(dú)特電學(xué)性質(zhì),成為后摩爾時(shí)代器件的核心材料。然而,金屬-半導(dǎo)體接觸電阻成為限制器件性能的關(guān)鍵瓶頸。傳統(tǒng)二維半導(dǎo)體(如MoS?、...
基于改進(jìn)傳輸線法(TLM)的金屬 - 氧化鋅半導(dǎo)體界面電阻分析
傳輸線方法(TLM)作為常見的電阻測(cè)量技術(shù),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件中溝道電阻與接觸電阻的提取。傳統(tǒng)的TLM模型基于理想歐姆接觸假設(shè),忽略了界面缺陷、勢(shì)壘等...
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